特許
J-GLOBAL ID:200903071683953199

エアナイフ乾燥の制御方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 影井 俊次
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-293537
公開番号(公開出願番号):特開2004-125342
出願日: 2002年10月07日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】種々の基板に対して最適な乾燥条件を容易かつ円滑に与えることができるようにする。【解決手段】コンベア手段10で搬送され、エアナイフノズル20からの加圧エアで基板Sを乾燥している間にラインセンサ30により基板乾燥開始位置P2を計測する。エアナイフノズル20から基板乾燥開始位置P2までの適正距離範囲Xを設定して、ラインセンサ30により基板乾燥開始位置P2を検出して、制御回路31により適正距離範囲X内であるか、それより長いか、短いかの判定を行い、エアナイフノズル20に供給される加圧エアの流量をオートダンパ32により自動的に増減制御する。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
搬送手段に沿って平流し状態で基板を搬送する間に、この基板の少なくとも1面に対してエアナイフ乾燥を行うに当って、 前記基板の搬送方向において、エアナイフノズルの位置から乾燥始端位置までの距離を測定し、 この距離が所定の範囲内になるように、前記エアナイフノズルからの加圧エアの流量または前記基板の搬送速度を制御する ことを特徴とするエアナイフ乾燥方法。
IPC (2件):
F26B21/00 ,  F26B15/18
FI (2件):
F26B21/00 C ,  F26B15/18 Z
Fターム (8件):
3L113AA02 ,  3L113AB01 ,  3L113AC48 ,  3L113BA34 ,  3L113CA06 ,  3L113CB23 ,  3L113DA04 ,  3L113DA24
引用特許:
審査官引用 (2件)

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