特許
J-GLOBAL ID：200903071684953664
プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-044969
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283018
出願日： 1997年02月14日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 高精細なPDP用の障壁をサンドブラスト法で製造する際に、障壁の形状を良好に保持して加工できる新規なプラズマディスプレイパネルの製造方法とその製造方法によるプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】 PDP用の障壁をサンドブラスト法で製造する際に、障壁の大部分を構成する基層とサンドブラストの際の切削マスク層となる感光性材料からなる表面層を積層して形成し、表面層を露光、現像した後に、サンドブラストを行うことにより、障壁の形状を良好に加工することが可能となる。また、基層とマスク層との間に両層の緩衝層となる第3の層を設けることにより、より加工を容易、確実とすることができる。加えて、障壁の各層の明度を調整することにより、輝度の向上とコントラストの向上が図れる。
請求項（抜粋）：
放電空間を規定するための障壁を有するプラズマディスプレイパネルの障壁をサンドブラスト法により形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、平行して相対する2枚の絶縁基板の一方の内面に、少なくとも低融点ガラスフリットとバインダー樹脂からなる第1の障壁形成材料により第1の障壁形成材料層を所要高さに形成する工程、前記第1の障壁形成材料層上に、少なくとも低融点ガラスフリットと紫外線硬化樹脂からなり、前記紫外線硬化樹脂の割合が第1の障壁形成用材料中のバインダー樹脂の割合よりも多くなるように配合した第2の障壁形成材料により第2の障壁形成材料層を形成する工程、フォトマスクを介して前記第2の障壁形成材料層の障壁パターン形成予定部分に紫外線を照射し、現像して、障壁パターンを形成する工程、前記障壁パターンが形成された第2の障壁形成材料層を切削マスクとして、前記第1の障壁形成材料層をサンドブラスト法により切削する工程、前記第1の障壁形成材料層と前記第2の障壁形成材料層を焼成して第1の障壁層と第2の障壁層からなる障壁を形成する工程、とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/02 F
, H01J 11/00 K
