表面処理用支持部材、表面処理用ホルダ-、表面処理方法並びに表面処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水善▲廣▼ (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-265400
公開番号（公開出願番号）：特開2000-169964
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【課題】リング状等の内径部を備える被処理物に対しても、複数個の被処理物を一括してしかも均一に表面処理できる表面処理方法を提供する。【解決手段】複数個の被処理物の表面処理方法であって、処理室内において、前記被処理物を互いに離間状態で自転運動及び/又は公転運動させながら表面処理する。被処理物は、多数の籠状区画室を備えた長手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成された表面処理用支持部材、長手方向に沿って折り畳み開閉自在の板状部材で構成され、これら板状部材は折り開き状態において前記被処理物の内径に対応する長さの複数個の狭幅部を形成できるようにした表面処理用支持部材、或いは、線状部材を隙間を存して巻回し、両端に渦巻き線状面を備えるスプリング状の筒状体に形成し、この筒状体内に被処理物を収容自在とした表面処理用ホルダーで支持乃至収容した状態で前記表面処理をする。

請求項（抜粋）：

複数個の被処理物を支持する表面処理用支持部材であって、多数の籠状区画室を備えた長手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成されたことを特徴とする表面処理用支持部材。

引用特許：

審査官引用 (6件)

回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-313156 出願人：日本ピストンリング株式会社
特開昭55-145336
特開昭57-131363

全件表示

前のページに戻る