特許
J-GLOBAL ID：200903071707977302

熱安定化装置の内部洗浄方法

発明者：
青木 泰一郎

青木 泰一郎 について

, 
中村 彰彦

中村 彰彦 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-236784
公開番号（公開出願番号）：特開2004-073981
出願日： 2002年08月15日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】装置の分解を行わずに容易に処理室内の清掃を行う洗浄方法を提供する。【解決手段】テーブルの開口部の下部を密閉するとともに加熱部材を備えた基板載置用のステージと、前記開口部の上部を密閉する透明板の付いた蓋体との間に処理室が形成された熱安定化装置の内部洗浄方法において、前記処理室を、過酸化水素水の蒸気雰囲気とし、この状態で前記透明板の上方に配置される紫外線ランプによる紫外線の照射によって処理室を洗浄した後、該処理室内をテーブルに設けられている真空排気用通路を通して真空引きする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
テーブルの開口部の下部を密閉するとともに加熱部材を備えた基板載置用のステージと、前記開口部の上部を密閉する透明板の付いた蓋体との間に処理室が形成された熱安定化装置の内部洗浄方法において、前記処理室を、過酸化水素水の蒸気雰囲気とし、この状態で前記透明板の上方に配置される紫外線ランプによる紫外線の照射によって処理室を洗浄した後、該処理室内をテーブルに設けられている真空排気用通路を通して真空引きすることを特徴とする熱安定化装置の内部洗浄方法。
IPC (4件)：
B08B9/08 ,  B08B7/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3065
FI (4件)：
B08B9/08 ,  B08B7/00 ,  H01L21/302 101H ,  H01L21/30 571
Fターム (10件)：
3B116AA32 ,  3B116AB53 ,  3B116BB11 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  5F004AA15 ,  5F004BB05 ,  5F004BD07 ,  5F004DA00 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (3件)

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