特許
J-GLOBAL ID:200903071716926893
ナノ構造化基体の光学的画像化
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 宍戸 嘉一
, 村社 厚夫
, 弟子丸 健
, 井野 砂里
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-578914
公開番号(公開出願番号):特表2005-521052
出願日: 2003年01月10日
公開日(公表日): 2005年07月14日
要約:
基体の表面上で生じる現象を画像化する方法は、流体を基体の頂面に接触させる段階と、液体が基体の頂面に接触した後、液晶が存在していない状態で基体を偏光を通して基体を観察することによって基体の頂面上で生じる現象を画像化する段階とを有する。基体の頂面は、異方性トポグラフィーを有し、偏光の波長は、基体の頂面の異方性トポグラフィーよりも大きい。
請求項(抜粋):
基体の表面上で生じる現象を画像化する方法であって、
(a)流体を基体の頂面に接触させる段階を有し、基体の頂面は、異方性トポグラフィーを有し、
(b)流体が基体の頂面に接触した後、液晶の不在において基体を偏光を通して観察することにより基体の頂面上で生じる現象を画像化する段階を有し、偏光の波長は、基体の頂面の異方性トポグラフィーよりも大きいことを特徴とする方法。
IPC (4件):
G01N21/21
, G01N21/27
, G01N21/78
, G01N33/68
FI (4件):
G01N21/21 Z
, G01N21/27 C
, G01N21/78 B
, G01N33/68
Fターム (39件):
2G045BA13
, 2G045BB11
, 2G045BB14
, 2G045DA36
, 2G045FA15
, 2G045GC11
, 2G045HA06
, 2G045JA01
, 2G054BB07
, 2G054CA21
, 2G054CA22
, 2G054CA23
, 2G054CE01
, 2G054EA10
, 2G054EB01
, 2G054FA34
, 2G054FB04
, 2G054GA03
, 2G054GA06
, 2G054GB04
, 2G054GB10
, 2G054JA04
, 2G054JA20
, 2G059AA05
, 2G059BB04
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059DD01
, 2G059DD13
, 2G059EE01
, 2G059EE05
, 2G059FF01
, 2G059FF03
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ18
, 2G059JJ19
, 2G059KK04
引用特許: