特許
J-GLOBAL ID：200903071732950583
回折光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
佐藤 幸男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-115272
公開番号（公開出願番号）：特開平10-068808
出願日： 1997年04月17日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】 試行錯誤的な作業を得ることなく所望の光学特性を示す回折光学素子を効率的に製造する。【解決手段】 光路差関数の多項式の各係数を与えることにより、その光路差関数で特定される形状の回折光学素子をフォトリソグラフィ法で形成するために必要なマスクの条件を求めるコンピュータプログラムの実行によってマスクの条件を求める工程を含む回折光学素子の製造方法。所定の光学特性を満たす光路差関数を一般式として求め、求められた光路差関数をテイラー展開し、テイラー展開により得られたテイラー展開式の各項の係数を求め、当該各係数をコンピュータプログラムに与える多項式の各係数としてコンピュータプログラムに入力し、当該プログラムの実行により、マスク条件を求め、求められた条件のマスクを用いたフォトリソグラフィ法により、所望の回折光学素子を製作する。
請求項（抜粋）：
多項式で表現された光路差関数における前記多項式の各係数を与えることにより、前記光路差関数で特定される形状の回折光学素子をフォトリソグラフィ法で形成するために必要なマスクの条件を求めるコンピュータプログラムの実行によってマスクの条件を求める工程を含む、回折光学素子の製造方法であって、所望の光学特性を満たす光路差関数を一般式として求めること、求められた光路差関数をテイラー展開し、その近似式を求めること、テイラー展開により得られたテイラー展開式の各項の係数を前記コンピュータプログラムに与える前記多項式の各係数として前記コンピュータプログラムに入力し、当該プログラムの実行により、マスク条件を求めること、求められた条件のマスクを製作し、該マスクを用いたフォトリソグラフィ法により、回折光学素子を製作することを含む、回折光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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