ガス処理装置、バッフル部材、及びガス処理方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-100341
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290777
出願日： 1999年04月07日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】被処理体上の全面にガスを均一に供給することができるガス処理装置、ガス処理方法及びそのような装置や方法に用いるバッフル板を提供する。【解決手段】ガス処理装置1は、気密に構成された処理室2と、処理室2に接続されたガス導入管3と、ガス導入管3を介して処理室2内にガスを供給するガス供給源4と、処理室2内に配置されウエハ6を載置する載置台7と、ガス導入管3のガス出口3aに設けられ噴出側を載置台7側に向けて配設されたシャワーヘッド8と、シャワーヘッド8の載置台側隔壁を構成する多数の吐出孔10の穿孔された吐出板9と、吐出板9とガス導入管3のガス出口3aとの間に配設され多数の貫通孔12が穿孔されたバッフル板11とを具備する。貫通孔12はガス導入管3側に形成された上孔部13と、吐出板9側に上孔部13から拡開された下孔部14とからなる異径孔で構成される。

請求項（抜粋）：

気密に構成された処理室と、前記処理室に接続されたガス導入管と、前記ガス導入管を介して前記処理室内にガスを供給するガス供給源と、前記処理室内に配置され被処理体を載置する載置台と、前記処理室内に配設された前記ガス導入管のガス出口に配設されたシャワー部材と、前記シャワー部材の前記載置台側隔壁を構成し、複数の吐出孔が穿孔された吐出板と、前記シャワー部材内の前記吐出板と前記ガス出口との間に配設され、板面に垂直に穿孔された複数の貫通孔を有するバッフル部材であって、前記貫通孔が、前記ガス出口側表面に形成された第1開口部と、前記吐出板側表面に形成され、前記第1開口部より大きな開口面積の第2開口部との間を連通しているバッフル部材と、を具備することを特徴とするガス処理装置。

IPC (4件)：

C23C 16/44 , C23C 14/24 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (4件)：

C23C 16/44 D , C23C 14/24 M , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (30件)：

4K029AA24 , 4K029BD01 , 4K029CA02 , 4K029DA05 , 4K029FA05 , 4K029GA02 , 4K030AA03 , 4K030AA18 , 4K030BA18 , 4K030BA38 , 4K030DA04 , 4K030EA05 , 4K030FA01 , 4K030JA04 , 4K030KA12 , 4K030KA17 , 4K030LA12 , 4K030LA15 , 5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BB28 , 5F004BC03 , 5F045AA06 , 5F045AA08 , 5F045BB01 , 5F045DP03 , 5F045EE20 , 5F045EF05 , 5F045EF14 , 5F045EH13

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平1-283391
特開平2-073624
プラズマCVD装置および反応性イオンエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-130669 出願人：株式会社東芝

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