特許
J-GLOBAL ID：200903071754578645
微小レリーフ要素およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-533862
公開番号（公開出願番号）：特表平11-505625
出願日： 1996年05月08日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】a)第1基材の第1層であって、レリーフ形成ポリマーを保持する能力のある受容面を有する第1層、b)受容面上の所望の厚みのレリーフ形成ポリマーのオーバーレイ、およびc)レリーフ形成ポリマーから形成され、そしてオーバーレイの上に突き出た少なくとも1つのレリーフ形状を備える、微小レリーフ要素。上記の微小レリーフ要素を備える構造およびエレメント。その微小光学的、微小流体的、微小電気的および微小化学的応用。その調製のための方法および装置。
請求項（抜粋）：
微小光学的、微小流体的、微小電気的、微小機械的または微小化学的な用途に利用するための微小レリーフ要素であって、(a) レリーフ形成ポリマーがその上に保持された受容面を有する、第1の基材の第1の層を備え、 該レリーフ形成ポリマーが、(b) 該受容面上に固定された、調節された厚みのオーバーレイとして保持され、(c) 該オーバーレイの表面から突出している少なくとも1つのレリーフ形状を有する、微小レリーフ要素。
IPC (5件)：
G02B 3/00
, B29C 33/42
, G02B 5/18
, G03H 1/00
, B29L 11:00
G02B 3/00 A
, B29C 33/42
, G02B 5/18
, G03H 1/00
