特許
J-GLOBAL ID:200903071797653845
オートサーマルリフォーミング方法および装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-106622
公開番号(公開出願番号):特開2003-306305
出願日: 2002年04月09日
公開日(公表日): 2003年10月28日
要約:
【要約】【課題】 オートサーマルリフォーミング(ATR)において、触媒層入り口側の温度上昇と、出口側における温度低下とを抑制し、触媒層内の温度分布を緩やかにする。【解決手段】 水素を含有する改質ガスを製造するATR方法において、改質原料、酸素含有ガスおよび水蒸気が供給される触媒層の断面積および長さをそれぞれS(cm2)およびL(cm)としたとき、該改質原料の炭素と水素の原子比C/Hが0.25を超え0.40以下の場合L/S=2〜30(cm-1)、0.40を超え0.42以下の場合L/S=1〜20(cm-1)、0.42を超え0.47以下の場合L/S=0.5〜15(cm-1)、0.47を超え0.58以下の場合L/S=0.5〜10(cm-1)とする。L/Sが最適化されたATR装置。L/Sが可変のATR装置。
請求項(抜粋):
改質原料、酸素含有ガスおよび水蒸気を触媒層で酸化反応および水蒸気改質反応させて水素を含有する改質ガスを製造するオートサーマルリフォーミング方法において、改質原料、酸素含有ガスおよび水蒸気が供給される触媒層の断面積および長さをそれぞれS(cm2)およびL(cm)とし、該改質原料の炭素と水素の原子比をC/Hとしたとき、C/Hが0.25を超え0.40以下の場合にL/S=2〜30(cm-1)、C/Hが0.40を超え0.42以下の場合にL/S=1〜20(cm-1)、C/Hが0.42を超え0.47以下の場合にL/S=0.5〜15(cm-1)、C/Hが0.47を超え0.58以下の場合にL/S=0.5〜10(cm-1)とすることを特徴とするオートサーマルリフォーミング方法。
IPC (3件):
C01B 3/38
, C01B 3/32
, H01M 8/06
FI (3件):
C01B 3/38
, C01B 3/32 A
, H01M 8/06 G
Fターム (10件):
4G140EA01
, 4G140EA02
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EA07
, 4G140EB03
, 4G140EB16
, 4G140EC08
, 5H027AA02
, 5H027BA01
引用特許: