特許

J-GLOBAL ID：200903071820996372

レジストパターン形成方法

発明者： 山下 吉雄 ,  江刺 正喜
出願人/特許権者： 株式会社ソルテック ,  江刺 正喜
代理人 (1件)： 佐藤 英世
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-259531
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082629
出願日： 1995年09月13日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターン形成時、特に密集した微細なレジストパターン、或いは高アスペクトなレジストパターンの形成時に、パターン倒れを有効に防止し、それによって歩留りの高い製品を得られるようにしようとするものである。【解決手段】 レジストの現像工程で、現像・リンス後、比重1.5以上で表面張力20dyns/cm以下のフッ素系不活性液体6を用い、リンス液5と置換する。

請求項（抜粋）：

レジストの現像工程で、現像後又は現像・リンス後、比重1.5以上で表面張力20dyns/cm以下のフッ素系不活性液体を用い、現像液又はリンス液と置換することを特徴とするレジストパターン形成方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 570 ,  H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• レジスト現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016107   出願人：株式会社日立製作所