特許

J-GLOBAL ID：200903071843618294

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 荒木 浩之
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-186761
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005711
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】薬液を効率的に用いて基板の汚染を効果的に除去することができ、これにより薬液の使用量を少なくすることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 【解決手段】この装置は、スピンチャック1は、このスピンチャック1に保持された基板Wの周縁部に硫酸をスプレーする硫酸スプレーノズル2と、基板Wに純水を供給する上純水ノズル3とを備えている。制御部8は、基板Wの周縁部に硫酸スプレーノズル2から硫酸をスプレーさせ、その後に、上純水ノズル3から基板Wに純水を供給させる。 【効果】基板Wの周縁部で硫酸と純水との発熱反応が生じ、汚染を効果的に除去できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板を保持するための基板保持手段と、 この基板保持手段によって保持された基板の周縁部に向けて硫酸を供給するための硫酸供給手段と、 前記基板保持手段によって保持された基板の少なくとも周縁部に水分を供給するための水分供給手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

FI (4件)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B ,  B08B3/08 Z

Fターム (13件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB52 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD41

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-193652   出願人：大日本スクリーン製造株式会社