特許
J-GLOBAL ID:200903071900719868

磁気記録媒体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-195691
公開番号(公開出願番号):特開平6-036272
出願日: 1992年07月22日
公開日(公表日): 1994年02月10日
要約:
【要約】【構成】 いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体において、磁性層表面に形成する保護膜は、炭素を主成分とし、5原子%〜20原子%の水素を含むものとする。また、保護膜の成膜方法がスパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法より選ばれることを特徴とするものである。【効果】 摺動耐久性に優れた信頼性の高い磁気記録媒体とその製造方法を提供することができる。
請求項(抜粋):
非磁性支持体上に単層または多層構造の磁性薄膜が形成され、該磁性薄膜上に炭素を主成分とし5原子%〜20原子%の水素を含有する保護膜が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (3件):
G11B 5/72 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84
引用特許:
審査官引用 (4件)
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