プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の使用方法およびガス供給管パーツの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：亀谷美明 , 金本哲男 , 萩原康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-269945
公開番号（公開出願番号）：特開2008-091571
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：

【課題】ガスの流れを良好にするプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置100には、噴射孔Aを有する第1のガス供給管パーツ28aと、その下方に位置し、噴射孔Bを有する第2のガス供給管パーツ28bと、各第1のガス供給管パーツ28aをその両端にて支持する第1の側壁と、噴射孔Bが基板に向かって開口するように、各第2のガス供給管パーツ28bをその両端にてそれぞれ支持する第2の側壁と、第1および第2のバッファ空間42a1,42b1をその一部に構成する第1および第2のガス通路42a、42bとを有する。アルゴンガスおよび酸素ガスは、第1のバッファ空間42a1から各第1のガス供給管パーツ28aに通され、噴射孔Aから処理室Uに供給される。シランガスは、第2のバッファ空間42a2から各第2のガス供給管パーツ28bへ通され、噴射孔Bから処理室Uに供給される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

ガスをプラズマ化させ、被処理体をプラズマ処理する処理室を備えたプラズマ処理装置であって、第1の噴射孔を複数有する複数本の第1のガス供給管パーツと、前記複数の第1の噴射孔が被処理体と対向する前記処理室の天井面に向かって開口するように、各第1のガス供給管パーツを前記各第1のガス供給管パーツの両端にてそれぞれ支持する第1の壁と、前記第1の壁の内部に設けられた第1のガス通路と、第1のガスを前記第1のガス通路から前記複数本の第1のガス供給管パーツへ通し、前記複数の第1の噴射孔から前記処理室に供給する第1のガス供給手段と、前記第1のガス供給管パーツより被処理体に近い位置に設けられ、第2の噴射孔を複数有する複数本の第2のガス供給管パーツと、前記複数の第2の噴射孔が被処理体に向かって開口するように、各第2のガス供給管パーツを前記各第2のガス供給管パーツの両端にてそれぞれ支持する第2の壁と、前記第2の壁の内部に設けられた第2のガス通路と、第2のガスを前記第2のガス通路から前記複数本の第2のガス供給管パーツへ通し、前記複数の第2の噴射孔から前記処理室に供給する第2のガス供給手段とを備えたプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 , H01L 21/306 , C23C 16/511 , H01L 21/02

FI (4件)：

H01L21/31 C , H01L21/302 101D , C23C16/511 , H01L21/02 Z

Fターム (39件)：

4K030AA06 , 4K030AA14 , 4K030AA16 , 4K030BA44 , 4K030CA06 , 4K030EA03 , 4K030FA01 , 4K030HA16 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BA06 , 5F004BA16 , 5F004BA20 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004BC01 , 5F004BC03 , 5F004CA02 , 5F004CA08 , 5F045AA09 , 5F045AB32 , 5F045AC01 , 5F045AC11 , 5F045AC16 , 5F045AF07 , 5F045BB01 , 5F045BB15 , 5F045EE11 , 5F045EE14 , 5F045EE17 , 5F045EE20 , 5F045EF01 , 5F045EF03 , 5F045EF08 , 5F045EF11 , 5F045EH02 , 5F045EH03

引用特許：

出願人引用 (2件)

処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-329329 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-037296 出願人：住友金属工業株式会社

審査官引用 (2件)

処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-329329 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-037296 出願人：住友金属工業株式会社

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