特許

J-GLOBAL ID：200903098597225038

プラズマ処理装置

発明者： 吉識 隆裕 ,  片山 美貴子
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-037296
公開番号（公開出願番号）：特開平10-241891
出願日： 1997年02月21日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】大面積の試料を処理するときであっても、試料を高速でプラズマ処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波導波路用の誘電体層(32)、誘電体層(32)に対向して設けられているマイクロ波導入窓(14)およびこのマイクロ波導入窓(14)に対面するように内部に試料台(15)が配置されている反応室(12)を備えるプラズマ処理装置であって、マイクロ波導入窓(14)から5mm以内の位置に反応室(12)へのガスの導入口(16g)が開口しているプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

マイクロ波導波路用の誘電体層、誘電体層に対向して設けられているマイクロ波導入窓、およびこのマイクロ波導入窓に対面するように内部に試料台が配置されている反応室を備えるプラズマ処理装置であって、マイクロ波導入窓から5mm以内の位置に反応室へのガスの導入口が開口していることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-053865   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開昭61-222131
  
• 特開昭61-222131