特許
J-GLOBAL ID:200903071997211731

拡散補給型電子源、その製作法及び電子応用装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 和泉 良彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-155372
公開番号(公開出願番号):特開2004-006368
出願日: 2003年05月30日
公開日(公表日): 2004年01月08日
要約:
【課題】電子顕微鏡や電子線描画装置等の電子線応用装置に用いられ、電子流密度が高く、長時間安定に動作し、かつ、製作過程での機械的衝撃に強く、しかも、短時間で製作工程が終了する歩留りの良い拡散補給型電子源を実現する。【解決手段】W、MoまたはRe等の高融点金属のヘアピン型フィラメント2の先端部に、W、MoまたはRe等の高融点金属の針状の単結晶線1を接合し、上記単結晶線1よりも仕事関数または電気陰性度の低いTi、Zr、Hf、Y、Th、Sc、Be等の金属粉末、またはその化合物粉末をニトロセルロースに酢酸ブチルまたは酢酸イソアミルを添加した有機溶剤によりスラリー状にして、単結晶線1とフィラメント2との接合部近傍に塗布し、真空中で加熱して焼結し、補給源3とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
高融点金属よりなるフィラメントと、当該フィラメントの先端部に接合された高融点金属よりなる単結晶線と、上記フィラメントと上記単結晶線との接合部または少なくともその一方に形成された補給源とを有し、 該補給源は、補給源材料を、ニトロセルロースに酢酸ブチルまたは酢酸イソアミルを添加した有機溶剤によりスラリー状にして塗布された後、真空中で加熱することにより形成されたことを特徴とする拡散補給型電子源。
IPC (5件):
H01J37/073 ,  G03F7/20 ,  H01J1/304 ,  H01J9/02 ,  H01L21/027
FI (6件):
H01J37/073 ,  G03F7/20 504 ,  G03F7/20 521 ,  H01J9/02 B ,  H01L21/30 541B ,  H01J1/30 F
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 電界放射型陰極およびその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-224176   出願人:株式会社日立製作所
  • 陰極線管
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-225454   出願人:株式会社日立製作所, 日立エレクトロニックデバイシズ株式会社
審査官引用 (2件)
  • 電界放射型陰極およびその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-224176   出願人:株式会社日立製作所
  • 陰極線管
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-225454   出願人:株式会社日立製作所, 日立エレクトロニックデバイシズ株式会社

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