特許

J-GLOBAL ID：200903071997340760

超音波洗浄装置及びその超音波洗浄方法

発明者： 島田 忠幸 ,  田本 宏一
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (2件)： 藤井 紘一 ,  依田 孝次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-361700
公開番号（公開出願番号）：特開2007-165695
出願日： 2005年12月15日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：

【課題】洗浄に寄与するキャビテーションの崩壊による衝撃力を制御して半導体基板の配線パターンに与えるダメージを軽減することができる超音波洗浄装置及びその洗浄方法を提供する。【解決手段】半導体基板Wが浸漬される洗浄液を貯留した内槽2を備える洗浄槽1に備える超音波洗浄装置において、内槽2に貯留された洗浄液の超音波振動による洗浄液中の音圧を計測する圧力計測手段6を備えるとともに、圧力計測手段6から得られる出力に基づいて、洗浄性能と異常衝撃波とを監視する表示手段を備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

半導体基板が浸漬される洗浄液を貯留した内槽を備える洗浄槽に備える超音波洗浄装置において、 前記内槽に貯留された洗浄液の超音波振動による洗浄液中の音圧を計測する圧力計測手段を備えるとともに、該圧力計測手段から得られる出力に基づいて、洗浄性能と異常衝撃波とを監視するための出力を表示する表示手段を備えることを特徴とする超音波洗浄装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/304 642E ,  H01L21/304 642F ,  H01L21/304 648G

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 超音波による半導体基板の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-072871   出願人：松下電器産業株式会社