特許
J-GLOBAL ID：200903072036502513
液晶表示装置およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-177695
公開番号（公開出願番号）：特開平9-026601
出願日： 1995年07月13日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】【目的】 開口率および画像のコントラスト比の向上を図った液晶表示装置およびその製造方法を提供しようとするものである。【構成】 洗浄したガラス基板4上に、光遮敝膜15を堆積し、この上にNSG15を堆積した後に蓄積容量6部のパターニングをし、更に容量絶縁膜23を堆積し、その後は従来の方法によりTFT5等を形成してTFT基板を製造する。【効果】 略格子状の光遮敝膜を、TFT部が形成される前の基板上に形成するようにしたため、液晶表示装置の製造プロセスを簡略化して製造コストを低減することができるとともに、液晶表示装置の開口率および画像のコントラスト比を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
透明基板上にマトリクス状に配置された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのドレイン電極には、前記薄膜トランジスタと同一の半導体層を一方の電極とする蓄積容量と、透明電極とが接続された薄膜トランジスタ基板を有する液晶表示装置において、前記透明基板上に接して、各画素の前記透明電極以外の領域、前記薄膜トランジスタ領域、および前記透明電極の段差領域に配設した平面形状が略格子形状の光遮敝膜と、該光遮敝膜上に接した層間絶縁膜とを具備し、前記層間絶縁膜上に前記薄膜トランジスタと前記蓄積容量とをマトリクス状に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1335
G02F 1/136 500
, G02F 1/1335
