薄膜形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-022673
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209131
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】基板に対して極めて強い密着性を持ち特性が均一な薄膜を形成でき、耐熱性のないプラスチックフィルムなどをも基板として用いうる薄膜形成装置の提供。【解決手段】本発明の薄膜形成装置は、活性ガス又は活性ガスと不活性ガスの混合ガスが導入される真空槽と、真空槽内において蒸発物質を蒸発させるための蒸発源4と、真空槽内に配置され基板13を蒸発源に対向するように保持する対電極12と、蒸発源と対電極との間に配備された蒸発物質を通過させうるグリッド10と、グリッドと蒸発源との間に配備された熱電子発生用のフィラメント8と、グリッドの電位を対電極の電位とフィラメントの電位に対し正電位とする電源手段18と、フィラメントと蒸発源との間に配置された蒸発分布補正用マスク20を有し、かつグリッド10の単位面積当りの開口面積をグリッドの面内で変化させ膜厚分布補正を行う。

請求項（抜粋）：

活性ガスもしくは活性ガスと不活性ガスの混合ガスが導入される真空槽と、この真空槽内において蒸発物質を蒸発させるための蒸発源と、上記真空槽内に配置され基板を上記蒸発源に対向するように保持する対電極と、上記蒸発源と対電極との間に配備された蒸発物質を通過させうるグリッドと、上記グリッドと上記蒸発源との間に配備された熱電子発生用のフィラメントと、上記グリッドの電位を上記対電極の電位と上記フィラメントの電位に対し正電位とする電源手段と、上記フィラメントと蒸発源との間に配置された蒸発分布補正用マスクを有し、かつ、上記グリッドの単位面積当りの開口面積をグリッドの面内で変化させ、膜厚分布補正を行うことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (2件)：

C23C 14/32 , C23C 14/06

FI (2件)：

C23C 14/32 A , C23C 14/06 N

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-180971
光磁気記録媒体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-351638 出願人：株式会社リコー
特開平3-123021

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