特許
J-GLOBAL ID:200903072056448833
テンプレート
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (3件):
河宮 治
, 鮫島 睦
, 玄番 佐奈恵
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-556469
公開番号(公開出願番号):特表2006-508825
出願日: 2003年11月12日
公開日(公表日): 2006年03月16日
要約:
基板および基板上に位置する単相ポリマー層を含む層構造物からテンプレートを形成する。ポリマー層は、テクスチャ表面を含み、テクスチャリングはポリマー層に応力を引き起こすことに起因する。テンプレートは、ナノメートルスケールで構造物を製造する用途を見出し、テンプレートを提供する工程およびテンプレート上に材料をモールドする工程を含み、続いて、テンプレートからモールドされた材料を取り除いて、アレイ、グリッド、光学素子または電子素子等の構造物をナノメートルスケールで提供する。テンプレートは、基板上に単相ポリマーの層を堆積させる工程、生じた構造物を単相ポリマーのガラス転移温度(Tg)よりも低い温度でベークする工程、ポリマー層に応力を引き起こすことによりポリマー層の表面をテクスチャリングする工程、および得られた構造物をアニールしてテンプレートを提供する工程を含む方法によって製造される。
請求項(抜粋):
基板および該基板上に位置する単相ポリマー層を含む層構造物から形成されるテンプレートであって、該ポリマー層はテクスチャ表面を含み、そのテクスチャリングはポリマー層に応力を引き起こすことに起因するテンプレート。
IPC (6件):
B29C 33/38
, B32B 27/30
, B32B 27/34
, B82B 3/00
, G02B 5/30
, H01L 21/027
FI (6件):
B29C33/38
, B32B27/30
, B32B27/34
, B82B3/00
, G02B5/30
, H01L21/30 502D
Fターム (45件):
2H049BA02
, 2H049BA45
, 2H049BB45
, 2H049BB46
, 2H049BC21
, 4F100AA00A
, 4F100AB01C
, 4F100AB11A
, 4F100AK01B
, 4F100AK25B
, 4F100AK49B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100EH46
, 4F100GB90
, 4F100JA20B
, 4F100JA20C
, 4F100JG01C
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4F202AF01
, 4F202AF16
, 4F202AG01
, 4F202AG05
, 4F202AH33
, 4F202AH73
, 4F202AJ02
, 4F202AJ03
, 4F202AJ06
, 4F202AJ09
, 4F202AR01
, 4F202AR06
, 4F202AR12
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD07
, 4F202CD23
, 4F202CD30
, 4F202CN01
, 5F046AA28
引用特許: