特許
J-GLOBAL ID:200903072056448833

テンプレート

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 河宮 治 ,  鮫島 睦 ,  玄番 佐奈恵
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-556469
公開番号(公開出願番号):特表2006-508825
出願日: 2003年11月12日
公開日(公表日): 2006年03月16日
要約:
基板および基板上に位置する単相ポリマー層を含む層構造物からテンプレートを形成する。ポリマー層は、テクスチャ表面を含み、テクスチャリングはポリマー層に応力を引き起こすことに起因する。テンプレートは、ナノメートルスケールで構造物を製造する用途を見出し、テンプレートを提供する工程およびテンプレート上に材料をモールドする工程を含み、続いて、テンプレートからモールドされた材料を取り除いて、アレイ、グリッド、光学素子または電子素子等の構造物をナノメートルスケールで提供する。テンプレートは、基板上に単相ポリマーの層を堆積させる工程、生じた構造物を単相ポリマーのガラス転移温度(Tg)よりも低い温度でベークする工程、ポリマー層に応力を引き起こすことによりポリマー層の表面をテクスチャリングする工程、および得られた構造物をアニールしてテンプレートを提供する工程を含む方法によって製造される。
請求項(抜粋):
基板および該基板上に位置する単相ポリマー層を含む層構造物から形成されるテンプレートであって、該ポリマー層はテクスチャ表面を含み、そのテクスチャリングはポリマー層に応力を引き起こすことに起因するテンプレート。
IPC (6件):
B29C 33/38 ,  B32B 27/30 ,  B32B 27/34 ,  B82B 3/00 ,  G02B 5/30 ,  H01L 21/027
FI (6件):
B29C33/38 ,  B32B27/30 ,  B32B27/34 ,  B82B3/00 ,  G02B5/30 ,  H01L21/30 502D
Fターム (45件):
2H049BA02 ,  2H049BA45 ,  2H049BB45 ,  2H049BB46 ,  2H049BC21 ,  4F100AA00A ,  4F100AB01C ,  4F100AB11A ,  4F100AK01B ,  4F100AK25B ,  4F100AK49B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH46 ,  4F100GB90 ,  4F100JA20B ,  4F100JA20C ,  4F100JG01C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F202AF01 ,  4F202AF16 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AR01 ,  4F202AR06 ,  4F202AR12 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD07 ,  4F202CD23 ,  4F202CD30 ,  4F202CN01 ,  5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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