特許
J-GLOBAL ID：200903020093991288
インプリント・リソグラフィのための高精度方向付けアライメントデバイスおよびギャップ制御デバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-535125
公開番号（公開出願番号）：特表2003-517727
出願日： 2000年10月30日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：
【要約】インプリント・リソグラフィ中にテンプレートと基板を高精度に位置付けするプロセスおよび関連したデバイスは、精度の粗い較正ステージと、テンプレートと基板の間に一様なギャップを維持することができる高精度の方向付けステージを有する構成システムを含む。高精度の方向付けステージは、第1および第2の方向付け軸が交わるピボット点の周りの動きを行うためのたわみ継目を有する一対のたわみ部材を含む。アクチュエータは長くなったり、短くなったりして、たわみ部材を広げたり縮めたりする。テンプレートの分離は、基板からインプリントされた形状を破壊しないようにする剥しと引っ張りの方法を使用して行われる。
請求項（抜粋）：
リソグラフ形成したテンプレートと基板の間にギャップを生成するように、前記テンプレートと前記基板を離間した関係で互いに方向付けするステップと、 前記ギャップを設定する前または後に供給されることがあるUV硬化可能液体を前記ギャップに充填するステップと、 前記ギャップ内の前記UV硬化可能液体を硬化させるステップと、 パターンが前記テンプレートから前記基板に転写されて前記基板上に所望の形状を残すように、前記テンプレートと前記基板を分離するステップとを含むインプリント・リソグラフィのプロセス。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 D
, H01L 21/30 503 A
, H01L 21/30 503 C
5F046BA10
, 5F046CC01
, 5F046CC10
