特許
J-GLOBAL ID:200903072095500303
近接場光発生層及び熱膨張突出層を備えた薄膜磁気ヘッド
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 恵一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-012323
公開番号(公開出願番号):特開2007-193906
出願日: 2006年01月20日
公開日(公表日): 2007年08月02日
要約:
【課題】近接場光発生手段から発生した近接場光が、記録媒体の記録層部分に十分に到達し、書き込み時において記録層部分の保磁力を十分に低下させ得る薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】媒体対向面及びこの媒体対向面に垂直な素子形成面を有する基板と、この素子形成面に形成されており、書き込み用の電磁コイル素子と、近接場光を発生させて書き込みの際に磁気記録媒体の書き込み部分を加熱するための近接場光発生層と、電磁コイル素子及び近接場光発生層を覆うように素子形成面上に形成された被覆層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、近接場光発生層が、媒体対向面側のヘッド端面に向かって先細りした形状を有していて、このヘッド端面に達した先端を含む近接場光発生部を備えており、さらに、被覆層を構成する材料よりも熱膨張率の高い材料からなる熱膨張突出層が、近接場光発生部に近接して設けられている薄膜磁気ヘッドが提供される。【選択図】図4
請求項(抜粋):
媒体対向面及び該媒体対向面に垂直な素子形成面を有する基板と、該素子形成面に形成されており、主磁極層、補助磁極層及びコイル層を有する書き込み用の電磁コイル素子と、近接場光を発生させて書き込みの際に磁気記録媒体の書き込み部分を加熱するための近接場光発生層と、該電磁コイル素子及び該近接場光発生層を覆うように該素子形成面上に形成された被覆層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、
前記近接場光発生層が、媒体対向面側のヘッド端面に向かって先細りした形状を有していて、該媒体対向面側のヘッド端面に達した先端を含む近接場光発生部を備えており、
前記被覆層を構成する材料よりも熱膨張率の高い材料からなる熱膨張突出層が、前記近接場光発生部に近接して設けられていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (4件):
G11B 5/02
, G11B 11/10
, G11B 21/21
, G11B 5/31
FI (4件):
G11B5/02 T
, G11B11/10 502Z
, G11B21/21 E
, G11B5/31 A
Fターム (13件):
5D033AA05
, 5D033BA12
, 5D033BA71
, 5D075AA03
, 5D075CC04
, 5D075CC39
, 5D075CD07
, 5D075CD16
, 5D075EE03
, 5D091AA03
, 5D091AA10
, 5D091CC12
, 5D091CC20
引用特許:
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