特許

J-GLOBAL ID：200903072112929440

マスクの製造方法

発明者： 柴田 洋司
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256269
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104814
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 本発明はマスク露光及び露光データに関し、大容量化に対処する露光方法及び露光データの作成方法を確立する。【解決手段】 フォトレジストのポジ型或いはネガ型を共有に使用可能なマスクの製造方法において、マスクに露光する露光データ1を分割し、該露光データ1中に未露光領域を画定するブランキングパターン8を配置する。

請求項（抜粋）：

フォトレジストのポジ型或いはネガ型を共有に使用可能なマスクの製造方法において、マスクに露光する露光データを分割し、該露光データ中に、未露光領域を画定するブランキングパターンを配置する工程を含むことを特徴とするマスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭62-044740
  
• 特開平2-139911
  
• 大規模な型を写真食刻するためのレティクル並びに方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-315594   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 特開平4-177347
  
• 特開平4-177347