特許
J-GLOBAL ID：200903072137796046

ポリフェニレンスルホン酸類の製造方法

発明者：
小野寺 徹

小野寺 徹 について

, 
佐々木 繁

佐々木 繁 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-044343
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238665
出願日： 2002年02月21日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 スルホン酸基を有するモノマーを用いて、一挙にポリフェニレンスルホン酸類を製造する方法を提供する。【解決手段】 ゼロ価遷移金属錯体の共存下に、下式(1)(式中、Xは塩素、臭素、沃素原子を、Mはアルカリ金属又は4級アンモニウムを表す。)で示されるジハロゲノベンゼンスルホン酸類を重合させる又は式(1)で示されるジハロゲノベンゼンスルホン酸類と下式(2)(式中、Yは塩素、臭素、沃素原子を表す。)で示されるジハロゲノベンゼン類とを共重合させることを特徴とする遊離酸の形が下式(3)(式中、q、rは繰返し単位の数を表し、qとrの和は、10〜100000の範囲、qに対するrの比は0〜100の範囲である。)で示されるポリフェニレンスルホン酸類の製造方法。
請求項（抜粋）：
ゼロ価遷移金属錯体の共存下に、下式(1)(式中、Xは塩素、臭素、沃素原子を、Mはアルカリ金属又は4級アンモニウムを表す。mは1又は2を、nは4-mを表す。R1は、水素原子または重合反応に関与しない置換基を表し、R1が複数ある場合は、互いに異なっていても良い。)で示されるジハロゲノベンゼンスルホン酸類を重合させる又は式(1)で示されるジハロゲノベンゼンスルホン酸類と下式(2)(式中、Yは塩素、臭素、沃素原子を、pは1〜4を表す。R2は、水素原子または重合反応に関与しない置換基を表し、R2が複数ある場合は、互いに異なっていても良い。)で示されるジハロゲノベンゼン類とを共重合させることを特徴とする遊離酸の形が下式(3)(式中、R1、R2、m、n、pは前記の意味を表す。q、rは繰返し単位の数を表し、qとrの和は、10〜100000の範囲、qに対するrの比は0〜100の範囲であり、q個ある繰返し単位、r個ある繰返し単位はそれぞれ同じであっても異なっても良い。)で示されるポリフェニレンスルホン酸類の製造方法。
IPC (3件)：
C08G 61/10 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10
FI (3件)：
C08G 61/10 ,  H01M 8/02 P ,  H01M 8/10
Fターム (13件)：
4J032CA04 ,  4J032CB01 ,  4J032CB04 ,  4J032CB12 ,  4J032CC01 ,  4J032CD02 ,  4J032CE03 ,  4J032CE22 ,  4J032CG01 ,  5H026AA06 ,  5H026BB10 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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