特許
J-GLOBAL ID:200903072277263552
表面から汚れを除去するための活性化水性オゾンの洗浄及び衛生処理構成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大塚 康徳 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-248011
公開番号(公開出願番号):特開平9-125097
出願日: 1996年09月19日
公開日(公表日): 1997年05月13日
要約:
【要約】【課題】 オゾンを含む構成物で洗浄した表面に、さらに効果的な衛生処理を施す方法。【解決手段】 固形表面上の汚れを洗浄して、衛生処理する方法。特に、加工設備を動かさずにその場で洗浄するときの方法である。この方法は、表面にオゾン処理したpHが7より高い水性洗浄構成物を接触させる工程を含み、その次の工程として、過酸化水素、C1〜C10ペルオキシ脂肪族カルボン酸、あるいは以上の物質の混合物を含む水性構成物を表面に接触させて、過剰なオゾンを抑制すると同時に表面に衛生処理を施す工程を含む。オゾンは電気的な放電によって生じる。
請求項(抜粋):
(a)pHが少なくとも8であるオゾン処理水性洗浄構成物であって、銀/塩化銀参照電極に対する酸化還元電位が少なくとも+550mV生じるのに十分効果的な濃度の活性オゾン構成物を含む前記オゾン処理水性洗浄構成物を、固形表面上にある汚れあるいは薄層状の残留物に接触させ、(b)酸化還元電位を+400mV未満に低下させるのに効果的な量の過酸化水素、C1〜C10ペルオキシ脂肪族カルボン酸、あるいは以上の物質の混合物を含む水性衛生処理構成物によって、前記洗浄構成物を接触させた固形表面を処理する工程を含む固形表面の洗浄及び衛生処理方法。
IPC (4件):
C11D 10/00
, A61L 2/18
, A61L 2/20
, B08B 3/08
FI (4件):
C11D 10/00
, A61L 2/18
, A61L 2/20 J
, B08B 3/08 A
引用特許: