ビーム光走査装置および画像形成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-257351
公開番号（公開出願番号）：特開平11-095142
出願日： 1997年09月22日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】複数のビーム光を用いる場合、複数の解像度で、被走査面における複数のビーム光相互の位置関係を常に理想的な位置に高精度に制御でき、また、被走査面における各ビーム光のパワーを均一に制御でき、よって、常に高画質を維持することができる画像形成装置を提供する。【解決手段】マルチビーム光学系を用いたデジタル複写機において、感光体ドラムの表面を走査する複数のビーム光a〜dの通過位置を検知するビーム光位置検知装置38における複数のセンサパターンSB1〜SF1,SB2〜SF2を、ビーム光a〜dの走査方向に対してほぼ直交する方向に複数の解像度に対応した間隔で平行に並列配設している。

請求項（抜粋）：

ビーム光を発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、この走査手段により前記被走査面を走査すべく導かれたビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直交する方向に複数の解像度に対応した間隔で平行に並列配設された複数の光検知部で検知するビーム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段の検知結果に基づき、前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適正位置となるよう制御するビーム光通過位置制御手段と、を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44

FI (2件)：

G02B 26/10 B , B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-225315
特開平2-025828
ビーム光走査装置および画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-303008 出願人：株式会社東芝

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