特許

J-GLOBAL ID：200903072464827630

多孔質シリカ顆粒、その製造方法及び該多孔質シリカ顆粒を用いた合成石英ガラス粉の製造方法

発明者： 松井 宏 ,  坂口 司 ,  ライナー・ケプラー ,  フリツ-ウルリッヒ・クライス ,  クラウス・アノルト
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273752
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089125
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：

【要約】【目的】均質であるとともに、気孔径、気孔容積、比表面積が小さく、嵩比重が高く、石英ガラスの製造時に収縮を起こすことがない略球形の多孔質シリカ顆粒、その製造方法及び該多孔質シリカ顆粒を用いた合成石英ガラス粉の製造方法を提供すること。【解決手段】略球状であって、炭素濃度が1ppm未満、気孔容積が顆粒1グラム当たり0.5cm3/g以下、気孔の平均径が50nm以下、比表面積が100m2/g以下、嵩密度が0.7g/cm3以上であることを特徴とする多孔質シリカ顆粒、その製造方法及び該多孔質シリカ顆粒を用いた合成石英ガラス粉の製造方法。

請求項（抜粋）：

略球状であって、炭素濃度が1ppm未満、気孔容積が顆粒1グラム当たり0.5cm3以下、気孔の平均径が50nm以下、比表面積が100m2/g以下、嵩密度が0.7g/cm3以上であることを特徴とする多孔質シリカ顆粒。

IPC (2件)：

C01B 33/12 ,  C03B 20/00

FI (3件)：

C01B 33/12 A ,  C03B 20/00 D ,  C03B 20/00 J

Fターム (31件)：

4G014AH15 ,  4G072AA28 ,  4G072AA30 ,  4G072BB07 ,  4G072DD02 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH03 ,  4G072HH07 ,  4G072HH10 ,  4G072JJ01 ,  4G072JJ14 ,  4G072LL01 ,  4G072LL03 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072MM01 ,  4G072MM03 ,  4G072MM31 ,  4G072PP17 ,  4G072RR01 ,  4G072RR11 ,  4G072TT01 ,  4G072TT04 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT19 ,  4G072UU01 ,  4G072UU21

引用特許：

審査官引用 (11件)

• 半導体封止用樹脂組成物及びそれに用いる吸湿性充填剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-037061   出願人：水澤化学工業株式会社
• 非晶質シリカ系定形粒子、その製造方法及びその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-037062   出願人：水澤化学工業株式会社
• 合成石英粉の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-330199   出願人：三菱化学株式会社
• 特開昭64-033012
  
• 特開平3-228817
  
• 特開平4-219333
  
• 石英ガラス粉の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-186992   出願人：信越石英株式会社
• 合成石英ガラス粉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-158755   出願人：三菱化学株式会社
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185171   出願人：日本シリカ工業株式会社
• 高純度合成石英ガラス粉の製造方法、並びに高純度合成石英ガラス成形体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-310817   出願人：三菱化学株式会社
• 合成石英粉の製造方法及び石英ガラス成形体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-258692   出願人：三菱化学株式会社