特許

J-GLOBAL ID：200903072482525322

洗浄装置

発明者： 新山 喜三郎
出願人/特許権者： 東京化工機株式会社
代理人 (1件)： 合志 元延
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-166275
公開番号（公開出願番号）：特開2002-355622
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】【課題】 第1に、付着していた薬液が、残留することなく確実に除去され、第2に、形成される回路等への悪影響も防止され、第3に、これらが洗浄液の自動管理により、簡単容易に実現される、洗浄装置を提案する。【解決手段】 この洗浄装置2は、例えばプリント配線基板の製造工程において用いられ、例えば現像液,エッチング液,剥離液等の酸性やアルカリ性の薬液を用いて、プリント配線基板材Cを表面処理する処理装置1の後に、配設され、もって処理装置1においてプリント配線基板材Cに付着した薬液を、洗浄液Eの噴射により、除去する。そして、除去により洗浄液E中に含有されるに至った薬液の濃度を、酸性度やアルカリ度の変化に基づき検出する検出手段17と、その検出結果に基づき制御可能な、新鮮な洗浄液Eの供給弁18更には供給弁28,29,30と、を有してなる。

請求項（抜粋）：

処理対象物の表面に付着した薬剤を、洗浄液を用いて除去する洗浄装置において、該洗浄液中に含有されるに至った該薬剤の濃度の検出手段と、該検出手段の検出に基づき制御可能な該洗浄液の供給弁と、を有してなること、を特徴とする洗浄装置。

IPC (7件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06 ,  H01L 21/304 648

FI (8件)：

B08B 3/08 A ,  B08B 3/02 C ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/42 ,  H05K 3/06 C ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/30 569 B ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (23件)：

2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096GA26 ,  2H096GA60 ,  2H096HA30 ,  2H096LA18 ,  2H096LA19 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB04 ,  3B201BB21 ,  3B201BB95 ,  3B201CB15 ,  3B201CD22 ,  3B201CD41 ,  3B201CD43 ,  5E339BE11 ,  5E339BE13 ,  5E339BE16 ,  5E339EE10 ,  5F046LA03 ,  5F046LA09 ,  5F046MA06

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-287876   出願人：株式会社日立製作所
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-001278   出願人：シチズン時計株式会社
• スクリーン版の洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-349623   出願人：東京プロセスサービス株式会社
• 特開平2-253892
  
• 特開平2-253892