特許
J-GLOBAL ID：200903072608414610
露光方法及び露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-301748
公開番号（公開出願番号）：特開2006-114765
出願日： 2004年10月15日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】液浸走査露光時、液の滞留及び乱流発生のため、レジストから液中に発する物質及びマイクロバブル等が露光装置の結像特性に与える影響を抑制しつつ、露光工程のスループット向上と歩留まり高め得ること。【解決手段】基板12が一定方向に水平移動し、投影露光が複数回行われる時、基板上には投影露光される領域45と投影露光されない領域46が交互に現れる。露光スリット領域23が基板の下端に到達したら、基板ステージの移動方向を反転させて水平移動を開始させる。このとき未露光であった領域46に対して走査露光が行われる。露光フィールド45あるいは46への設計パターンの転写が、それぞれ被処理基板12の移動方向及び液膜の流れの方向を変えずに、連続して行われる。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
基板上に列方向に配列された第1及び第2の露光フィールドを有するレジスト膜を形成する工程と、
前記第1及び第2の露光フィールドに設計パターンを転写するための走査型の露光装置に前記基板を搭載する工程であって、前記露光装置は、前記設計パターンの一部に対応する光学パターン像を生成する光学パターン像生成手段と、前記光学パターン像を第1及び第2の露光フィールドより小さい露光スリット領域に投影する投影光学系と、前記基板を移動させる基板ステージと、前記レジスト膜への局所的な領域と前記投影光学系との間に流れを有する液膜を形成する液膜形成手段とを具備する工程と、
前記液膜形成手段を用いて前記液膜を形成する工程と、
前記第1または第2の露光フィールドに設計パターンを転写する工程であって、前記基板を前記列方向と平行な方向に移動させると共に、前記基板の移動に同期して前記光学パターン像生成手段で生成される光学パターン像を変化させる工程と含む露光方法であって、
第1及び第2の露光フィールドへの設計パターンの転写が、前記基板の移動方向及び前記液膜の流れの方向を変えずに、連続して行われることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 501
, H01L21/30 518
2H097AB09
, 2H097BA02
, 2H097EA01
, 2H097LA10
, 5F046BA05
, 5F046CB01
, 5F046CB25
, 5F046CC13
, 5F046CC20
, 5F046DA11
, 5F046DA30
