特許
J-GLOBAL ID：200903019300579556

露光装置ならびにデバイス製造方法

発明者：
鵜澤 繁行

鵜澤 繁行 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-184045
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021702
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：
【要約】【課題】 ウエハステージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減し、従来以上の高精度を達成すると共に、スループットの向上も達成した露光装置を提供することである。【解決手段】 レチクルを保持するレチクルステージと、ウエハを保持するウエハステージと、レチクルのパターンをウエハに投影する投影光学系を備え、該投影光学系に対して該レチクルステージと該ウエハステージを共に走査しながら露光を行い、レチクルのパターンをウエハの複数のショット領域に順に転写する露光装置であって、走査方向に沿って並んだウエハ上の複数のショット領域に対して、該ウエハステージを静止させることなく走査移動させながら、1ショット領域もしくはそれ以上のショット領域を露光せずに飛び越しながら、前記走査方向に並んだ複数のショット領域を順に間欠的に走査露光する。飛び越しの期間中に、レチクルステージを走査時とは逆の方向に戻す動作を行なう。
請求項（抜粋）：
レチクルを保持するレチクルステージと、ウエハを保持するウエハステージと、レチクルのパターンをウエハに投影する投影光学系を備え、該投影光学系に対して該レチクルステージと該ウエハステージを共に走査しながら露光を行い、レチクルのパターンをウエハの複数のショット領域に順に転写する露光装置であって、走査方向に沿って並んだウエハ上の複数のショット領域に対して、該ウエハステージを静止させることなく走査移動させながら、間欠的に露光を行うことを特徴とする露光装置。
Fターム (9件)：
5F046AA11 ,  5F046AA23 ,  5F046CA04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046CC14 ,  5F046DA14 ,  5F046DB14
引用特許：
審査官引用 (3件)

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