特許
J-GLOBAL ID：200903072611431453
合成石英ガラスの製造方法および合成石英ガラス並びに合成石英ガラス基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-248556
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060227
出願日： 2000年08月18日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：
【要約】【解決手段】 酸素ガス、水素ガスおよびシリカ製造原料ガスをバーナーから反応域に供給し、この反応域においてシリカ製造原料ガスの火炎加水分解によりシリカ微粒子を生成させると共に、上記反応域に回転可能に配置された基材に上記シリカ微粒子を堆積させて多孔質シリカ母材を作製し、この母材をフッ素化合物ガス含有雰囲気下で加熱・溶融ガラス化させて石英ガラスを得るフッ素含有合成石英ガラスの製造方法において、多孔質シリカ母材製造時に母材中心軸とバーナーから供給される原料炎の中心軸とのなす角度を90°〜120°の範囲とすることにより、密度が0.1〜1.0g/cm3の値を有し、その分布が0.1g/cm3以内である母材を作製し、これをガラス化することを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。【効果】 本発明によれば、バーナー角度を規定して密度の均一な多孔質シリカ母材を製造し、これをフッ素化合物ガス雰囲気下でガラス化することにより、200nm以下の真空紫外光に対して高い透過性を有し、かつ透過率および屈折率分布等が均一な合成石英ガラスを得ることができる。
請求項（抜粋）：
酸素ガス、水素ガスおよびシリカ製造原料ガスをバーナーから反応域に供給し、この反応域においてシリカ製造原料ガスの火炎加水分解によりシリカ微粒子を生成させると共に、上記反応域に回転可能に配置された基材に上記シリカ微粒子を堆積させて多孔質シリカ母材を作製し、この母材をフッ素化合物ガス含有雰囲気下で加熱・溶融ガラス化させて石英ガラスを得るフッ素含有合成石英ガラスの製造方法において、多孔質シリカ母材製造時に母材中心軸とバーナーから供給される原料炎の中心軸とのなす角度を90°〜120°の範囲とすることにより、密度が0.1〜1.0g/cm3の値を有し、その分布が0.1g/cm3以内である母材を作製し、これをガラス化することを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。
IPC (4件)：
C03B 8/04
, C03B 20/00
, G03F 1/14
, H01L 21/027
C03B 8/04 H
, C03B 8/04 E
, C03B 20/00 E
, C03B 20/00 F
, G03F 1/14 B
, H01L 21/30 502 P
2H095BA07
, 2H095BC27
, 4G014AH12
, 4G014AH15
, 4G014AH21
, 4G014AH23
