特許
J-GLOBAL ID:200903053414138820

真空紫外用石英ガラスの製造方法 および石英ガラス光学部材

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-170984
公開番号(公開出願番号):特開平8-075901
出願日: 1995年07月06日
公開日(公表日): 1996年03月22日
要約:
【要約】【目的】 真空紫外域の初期透過率及び耐紫外線性に優れた合成石英ガラスの製造方法を提供する。【構成】 合成石英ガラスにフッ素をドープした後、水素ガス雰囲気下500°C以下で加熱処理を行うことにより、フッ素濃度が100ppm以上、水素分子濃度が1×1017molecules/cm3以上の石英ガラスを提供する。
請求項(抜粋):
(a)ケイ素化合物を火炎中で加水分解せしめてガラス微粒子を得、該ガラス微粒子を堆積させて多孔質ガラスを形成する工程と、(b)前記多孔質ガラスをフッ素含有雰囲気中で加熱処理してフッ素ドープされた多孔質ガラスを得る工程と、(c)前記フッ素ドープされた多孔質ガラスを透明化してフッ素ドープされた合成石英ガラスを得る工程と、(d)前記フッ素ドープされた合成石英ガラスを水素ガス含有雰囲気中で加熱処理してフッ素及び水素がドープされた合成石英ガラスを得る工程と、を含む、真空紫外線用合成石英ガラスの製造方法。
IPC (7件):
G02B 1/00 ,  C03B 19/14 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  C03C 4/00 ,  G03F 7/20 502 ,  H01S 3/17
引用特許:
審査官引用 (4件)
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