特許
J-GLOBAL ID:200903072618731991
固体撮像装置及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-273402
公開番号(公開出願番号):特開2001-102557
出願日: 1999年09月27日
公開日(公表日): 2001年04月13日
要約:
【要約】【課題】 は画像品質が良く、歩留まりの良い固体撮像装置およびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板内に形成されたフォトダイオード(18)とこれに隣接するMOSトランジスタとを備えた固体撮像装置において、フォトダイオードは、MOSトランジスタのゲート近傍において基板面に露出した部分(18a)と、ゲートから離れるにしたがって弧を描くととともに幅が広がって基板内部に形成された拡散領域をなす。このような固体撮像装置ではフォトダイオードの基板表面への露出が少ないため、単純な構成で画質を向上させることができる。また、このような拡散領域を形成する製造方法は、ゲート電極14の側壁に側壁スペーサ16’を形成し、イオン注入条件を適当に選択することを特徴とする。
請求項(抜粋):
基板内に形成されたフォトダイオードとこれに隣接するMOSトランジスタとを備え、前記フォトダイオードは、前記MOSトランジスタのゲート近傍において基板面に露出した部分と、前記ゲートから離れるにしたがって弧を描くととともに幅が広がって基板内部に形成された拡散領域をなすことを特徴とする固体撮像装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 27/14 A
, H01L 31/10 A
Fターム (21件):
4M118AA05
, 4M118AB01
, 4M118BA14
, 4M118CA03
, 4M118CA18
, 4M118EA07
, 4M118EA14
, 4M118FA06
, 4M118FA28
, 4M118FA33
, 5F049MA01
, 5F049MB12
, 5F049NA04
, 5F049NA05
, 5F049NA08
, 5F049NB05
, 5F049PA09
, 5F049PA10
, 5F049PA14
, 5F049RA04
, 5F049UA20
引用特許:
審査官引用 (5件)
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固体撮像装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-251546
出願人:山形日本電気株式会社
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特開平4-299862
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特開平3-261172
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特開昭59-198756
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特開平4-291965
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