特許
J-GLOBAL ID:200903072665758989
照度均一化装置、露光装置、露光方法および半導体デバイスの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-339080
公開番号(公開出願番号):特開2008-153396
出願日: 2006年12月15日
公開日(公表日): 2008年07月03日
要約:
【課題】不純物を効率的に除去する照度均一化光学系を提供する。【解決手段】本発明による照度均一化光学系(351a、351b)は、複数の光学素子(3511a、3511b)を含み、前記複数の光学素子に光を照射して前記複数の光学素子からの光を集光して照度を均一化する照度均一化光学系であって、前記複数の光学素子の間に、不純物を吸着する吸着素子(1011)を配置したことを特徴とする。【選択図】図3
請求項(抜粋):
照度均一化光学系であって、その表面の照度が相対的に低い部分に不純物を吸着する吸着素子を配置したことを特徴とする照度均一化光学系。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G21K 1/06
, G21K 5/02
FI (5件):
H01L21/30 531A
, G03F7/20 503
, G21K1/06 B
, G21K1/06 P
, G21K5/02 X
Fターム (7件):
2H097BA04
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046GA03
, 5F046GA07
, 5F046GB01
, 5F046GB09
引用特許:
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