酸化錫膜とその製造方法および酸化錫膜の製造装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231082
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059175
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】シート抵抗が小さく、透過率が高く、かつ、ヘイズ率が高い酸化錫膜であって、表面に微細な凹凸を均一に有する酸化錫膜の提供。【解決手段】四塩化錫と水とを反応させて一方向に移動するガラス基板上に酸化錫膜を常圧CVD法により形成する酸化錫膜の製造方法であって、四塩化錫および水を含有するガスをガラス基板上に吐出して酸化錫膜を形成させる際の雰囲気が、ガラス基板の移動方向の上流側の方が下流側より水濃度が高い雰囲気であることを特徴とする酸化錫膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

四塩化錫と水とを反応させて一方向に移動するガラス基板上に酸化錫膜を常圧CVD法により形成する酸化錫膜の製造方法であって、四塩化錫および水を含有するガスをガラス基板上に吐出して酸化錫膜を形成させる際の雰囲気が、ガラス基板の移動方向の上流側の方が下流側より水濃度が高い雰囲気であることを特徴とする酸化錫膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 16/40 , C01G 19/02 , C03C 17/245 , H01L 31/04

FI (4件)：

C23C 16/40 , C01G 19/02 C , C03C 17/245 Z , H01L 31/04 M

Fターム (17件)：

4G059AA01 , 4G059AC12 , 4G059EA02 , 4G059EB01 , 4K030AA03 , 4K030BA45 , 4K030CA06 , 4K030EA06 , 4K030LA01 , 4K030LA11 , 5F051BA14 , 5F051CA15 , 5F051CB27 , 5F051FA03 , 5F051FA19 , 5F051FA24 , 5F051GA03

引用特許：

審査官引用 (2件)

熱分解によってコーティングを生成する装置と方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-352266 出願人：グラヴルベル
特開平2-175631

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