処理液供給装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：村上智司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-099186
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299312
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】温度が十分に均一化された処理液を供給することができる処理液供給装置を提供する。【解決手段】処理液を貯留した貯留槽2と、貯留槽2内に配設され、貯留槽2内の処理液温度を調節する温度調節手段15と、貯留槽2に接続した供給管11と、供給管11を介して貯留槽2に接続し、貯留槽2内の処理液を加圧して所定の処理領域内に供給する供給ポンプ12と、処理領域内に供給された処理液を貯留槽2に回収,還流せしめる回収管14とを設ける。回収管14の端部を貯留槽2内の一方側の内壁2c近傍に配置する一方、この内壁2cと対峙する他方側の内壁2d近傍に、供給管11の端部11aを配置する。

請求項（抜粋）：

処理液を貯留した貯留槽と、該貯留槽内に配設され、該貯留槽内の処理液温度を調節する温度調節手段と、前記貯留槽に接続した供給管と、該供給管を介して前記貯留槽に接続し、該貯留槽内の処理液を加圧して所定の処理領域内に供給する供給ポンプと、前記処理領域内に供給された処理液を前記貯留槽に回収,還流せしめる回収管とを備えた処理液供給装置において、前記回収管の端部を前記貯留槽内の一方側の内壁近傍に配置する一方、該一方側の内壁と対峙する他方側の内壁近傍に、前記供給管の端部を配置したことを特徴とする処理液供給装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , B01J 4/00 103 , H01L 21/304 648

FI (3件)：

B01J 4/00 103 , H01L 21/304 648 K , H01L 21/306 J

Fターム (14件)：

4G068AA02 , 4G068AB15 , 4G068AC01 , 4G068AC05 , 4G068AD21 , 4G068AD36 , 4G068AF12 , 4G068AF31 , 5F043EE12 , 5F043EE21 , 5F043EE22 , 5F043EE24 , 5F043EE40 , 5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (1件)

薬液供給装置及び薬液供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-136353 出願人：株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社

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