特許

J-GLOBAL ID：200903072713030178

基板洗浄装置及び基板洗浄方法

発明者： 横井 宏和 ,  青木 則茂
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (4件)： 板垣 孝夫 ,  森本 義弘 ,  笹原 敏司 ,  原田 洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-154764
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332386
出願日： 2005年05月27日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】基板の表面や裏面だけでなくベベルも良好に洗浄することができて、基板のベベル部に付着したパーティクルや汚染物質を除去し汚染を低減する。【解決手段】本発明は、外周領域にベベルが形成された基板1を保持する最低3つ以上のブラシ2A,2B、3A,3B、4A,4Bからなる保持部と、少なくとも一つ以上の保持部を自転させる駆動部5、6、7とを備えている。ブラシ2A,2B、3A,3B、4A,4Bの表面にはベベルの幅より大きい深さの溝が形成されており、基板1を脱落させること無く保持することができる。更に、基板1を保持した状態で保持部を自転させることにより基板1を自転させることが可能となり、そこへ純水や薬液を供給する事によって、保持部のブラシ2A,2B、3A,3B、4A,4Bによりベベルを均一且つ清浄に洗浄することができる基板洗浄装置及び基板洗浄方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

外周領域にベベルが形成された基板を保持する3つ以上の保持部と 少なくとも一つ以上の前記保持部を自転させる駆動部とを備え、 前記保持部はブラシからなり、 前記ブラシは前記ベベルに接して前記基板を保持する溝を有し、 前記溝の深さは前記ベベルの半径方向の幅より大きいことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B08B 1/04 ,  G11B 7/26

FI (3件)：

H01L21/304 644C ,  B08B1/04 ,  G11B7/26 501

Fターム (15件)：

3B116AA03 ,  3B116AB33 ,  3B116AB47 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BB22 ,  3B116BB83 ,  3B116CC03 ,  5D121BB31 ,  5D121BB38 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28 ,  5D121JJ02 ,  5D121JJ04 ,  5D121JJ09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-217462   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社