特許
J-GLOBAL ID：200903072715832476

絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法

発明者：
佐藤 弘光

佐藤 弘光 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-301095
公開番号（公開出願番号）：特開2006-091903
出願日： 2005年10月17日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】分散性、塗膜性及び長期保存安定性の優れた絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及びそれを用いた絶縁パターンの形成方法を提供すること。【解決手段】(a)アルカリ可溶性高分子バインダー、(b)光重合性モノマー、(c)光重合開始剤、(d)無機化合物粒子、(e)有機チタン化合物及び/又は有機ケイ素化合物及び(f)有機溶媒を含有する絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物であって、前記(e)成分が特定の有機チタン化合物及び/又は有機ケイ素化合物からなり、分散性、塗膜性及び長期保存安定性に優れた絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物、及び前記絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を回路等を形成した基板に塗布し、露光する絶縁パターンを形成する方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性高分子バインダー、(b)光重合性モノマー、(c)光重合開始剤、(d)無機化合物粒子、(e)有機チタン化合物及び/又は有機ケイ素化合物及び(f)有機溶媒を含有する絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物であって、前記(e)成分が化1〜化26から選ばれる化合物であることを特徴とする絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/075 ,  G03F 7/085 ,  G03F 7/004
FI (3件)：
G03F7/075 501 ,  G03F7/085 ,  G03F7/004 501
Fターム (17件)：
2H025AA00 ,  2H025AA18 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CB04 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC06 ,  2H025CC08 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭61-158861号公報
  • 特開平2-25847号公報
審査官引用 (4件)
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