特許

J-GLOBAL ID：200903072769959226

超微細流体ジェット装置

発明者： 村田 和広
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-375161
公開番号（公開出願番号）：特開2004-165587
出願日： 2002年12月25日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】本発明は、従来吐出不可能として試みられていなかった領域において、マクスウエル力などを利用することで、微細液滴を形成することを目的とする。【解決手段】本発明による超微細流体ジェット装置は、溶液が供給される超微細径のノズルの先端に近接して基板を配設するとともに、前記ノズル内の溶液に任意波形電圧を印加することにより前記基板表面に超微細径の流体液滴を吐出することを特徴とするもので、ノズルの小径化に伴うノズル先端近傍での電界強度が、ノズルと基板間に働く電場に比べて、十分に大きいノズルを構成要素とし、マクスウエル応力およびエレクトロウェッティング効果を利用するとともに、ノズルの小径化などによりコンダクタンスを低め、電圧による吐出量の制御性を増加させ、また、荷電液滴による蒸発の緩和と、電界による液滴の加速を用いることで、着弾精度を飛躍的に高めるものである。【選択図】 図9

請求項（抜粋）：

溶液が供給される超微細径のノズルの先端に近接して基板を配設するとともに、前記ノズル内の溶液に任意波形電圧を印加して前記基板表面に超微細径の流体液滴を吐出する超微細流体ジェット装置において、ノズルの直径を0.01μm〜25μmとし、ノズル先端に集中する集中電界強度を高めることにより、印加する電圧を低電圧化したことを特徴とする超微細流体ジェット装置。

IPC (5件)：

H05K3/10 ,  B05B5/08 ,  B05C5/00 ,  B41J2/06 ,  B82B3/00

FI (5件)：

H05K3/10 D ,  B05B5/08 B ,  B05C5/00 101 ,  B82B3/00 ,  B41J3/04 103G

Fターム (30件)：

2C057AF27 ,  2C057AF29 ,  2C057AF33 ,  2C057AF55 ,  2C057AF72 ,  2C057AG09 ,  2C057AG12 ,  2C057AG98 ,  2C057AH05 ,  2C057AJ01 ,  2C057AJ10 ,  2C057AM15 ,  2C057AM16 ,  2C057AM21 ,  2C057AM25 ,  2C057AQ01 ,  2C057BD05 ,  2C057BD14 ,  4F034AA03 ,  4F034CA11 ,  4F034DA26 ,  4F041AA02 ,  4F041AB02 ,  4F041BA01 ,  4F041BA17 ,  5E343BB72 ,  5E343DD13 ,  5E343FF05 ,  5E343GG11 ,  5E343GG20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 微量液滴形成方法及び微量液滴形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-219972   出願人：浜松ホトニクス株式会社
• 電界ジェットによる特定の電気伝導率を有する液体の付着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-270332   出願人：大日本印刷株式会社