特許
J-GLOBAL ID：200903072810074503
テラヘルツ周波数における全反射減衰分光測定法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三好 秀和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-180327
公開番号（公開出願番号）：特開2008-304444
出願日： 2007年06月11日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】 テラヘルツ電磁波が全反射するプリズムと試料界面の近傍に存在する試料のスペクトル測定が可能であり、またテラヘルツ領域における試料の複素屈折率を測定することも可能であるテラヘルツ分光手法および装置を提供すること。【解決手段】 テラヘルツ周波数における全反射減衰分光測定法及び装置は、テラヘルツ電磁波が全反射する際に生じるテラヘルツ周波数を有する表面波(エバネッセント波)を利用する。装置はポンプビーム及び信号ビームの2つの励起レーザをテラヘルツ電磁波発生用光学結晶へ入射しテラヘルツ電磁波を発生するテラヘルツ電磁波光源部と、テラヘルツ電磁波を入射してエバネッセント波を発生するためのプリズムとを有する構成とした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
差周波発生に基づくフォノン励起による単色コヒーレントテラヘルツ光源を用い,その光源から発生するテラヘルツ電磁波によりエバネッセント波を発生させ分光測定を行うテラヘルツ周波数における全反射減衰分光測定法。
IPC (3件)：
G01N 21/27
, G01N 21/35
, H01S 1/02
G01N21/27 C
, G01N21/35 Z
, H01S1/02
2G059AA01
, 2G059AA02
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059GG01
, 2G059GG09
, 2G059HH01
, 2G059HH05
, 2G059JJ12
, 2G059JJ13
, 2G059JJ14
, 2G059JJ22
, 2G059NN05
