特許
J-GLOBAL ID：200903072811747340

ソルダーフォトレジストインキ組成物

発明者：
塚谷 才英

塚谷 才英 について


出願人/特許権者：
日華化学株式会社

日華化学株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100912
公開番号（公開出願番号）：特開平10-282665
出願日： 1997年04月03日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】従来の紫外線硬化性樹脂を含む希アルカリ現像型ソルダーフォトレジストインキ組成物の光硬化性を大幅に改良し、紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤、希釈剤及び熱硬化性樹脂を含有する組成物として、低い露光量で硬化が可能であり、保存安定性が良好で、希アルカリ現像性、硬化塗膜の基板への密着性、耐熱性、表面硬度に優れるソルダーフォトレジストインキ組成物を提供する。【解決手段】紫外線硬化性樹脂(A)、光重合開始剤(B)、希釈剤(C)及び熱硬化性樹脂(D)を含有するソルダーフォトレジストインキ組成物において、紫外線硬化性樹脂が、ラジカル重合性不飽和アシル基とカルボキシル基を有する樹脂のカルボキシル基に、1つのエポキシ基と1つ以上のラジカル重合性不飽和基を1分子中に合わせもつ化合物(E)を反応することにより得られるものであることを特徴とするソルダーフォトレジストインキ組成物。
請求項（抜粋）：
紫外線硬化性樹脂(A)、光重合開始剤(B)、希釈剤(C)及び熱硬化性樹脂(D)を含有するソルダーフォトレジストインキ組成物において、紫外線硬化性樹脂が、ラジカル重合性不飽和アシル基とカルボキシル基を有する樹脂のカルボキシル基に、1つのエポキシ基と1つ以上のラジカル重合性不飽和基を1分子中に合わせもつ化合物(E)を反応することにより得られるものであることを特徴とするソルダーフォトレジストインキ組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/038 501 ,  C09D 11/00 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28 ,  C08F 2/50
FI (7件)：
G03F 7/038 501 ,  C09D 11/00 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28 D ,  C08F 2/50
引用特許：
審査官引用 (8件)
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