特許

J-GLOBAL ID：200903072846928843

静電チャックの製造プロセス

発明者： シャモウイル シャモウイリアン ,  サッソン ソメクー ,  ハイマン レビンステイン ,  マヌーシャー ビラン ,  セミヨン シャーステインスキー ,  ジョン エフ. キャメロン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-121106
公開番号（公開出願番号）：特開平10-070893
出願日： 1995年01月31日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 静電引力を最大にし;接着剤なしに及び絶縁体の下に空気をとラップさせずに、絶縁体を電極に効果的に接着し;エッジ及びコーナーの荒れが低減した、均一に電極に適合する絶縁体を与えるチャック作製プロセス【解決手段】 本発明の静電チャック製造プロセスは、(a)ベースの上面の上に電気絶縁体フィルムを配置させるステップと、(b)電気絶縁体フィルムに圧力を与え且つ電気絶縁体フィルムを加熱して、電気絶縁体フィルムをベースの上面に密着させるステップとを有する。

請求項（抜粋）：

静電チャックを製造するためのプロセスであって、(a)ベースの上面の上に電気絶縁体フィルムを配置させるステップと、(b)該電気絶縁体フィルムに圧力を与え且つ該電気絶縁体フィルムを加熱して、該電気絶縁体フィルムを該ベースの該上面に密着させるステップとを有するプロセス。

IPC (3件)：

H02N 13/00 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H02N 13/00 D ,  B23Q 3/15 D ,  H01L 21/68 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-013923   出願人：京セラ株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-309257   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社