化学蒸着のための有機銅前駆体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水初志 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-563846
公開番号（公開出願番号）：特表2002-522453
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2002年07月23日
要約：

【要約】本発明は、アセトアセテート誘導体と適当な中性リガンドを含み、(R6COOCR5COR4)Cu+1{L}x(式中、xが1、2または3、かつLがホスフィン、亜リン酸塩または不飽和炭化水素の中性リガンドである)を形成する有機銅(I)化合物を提供する。二つのR4及びR6はそれぞれ独立してC1-C9のアルキル基またはアリール基であって、かつR5がH、FまたはC1-C9のアルキル基またはアリール基である。CVD前駆体としてこれらの有機銅(I)化合物を用いる利点は、熱安定性、蒸発性、及びCVD法を利用して高品質の銅フィルムを付着させる能力が高いことである。これらの前駆体は蒸散可能な液体として、あるいは低融点の固体として単離されており、分解することなく蒸発して金属性または電気伝導性の表面に低温で選択的に銅を付着させることができる。

請求項（抜粋）：

下記の式(I)または(II)の組成物(R3COOCR2COR1)Cu+1(L)xの揮発性固体状または液体状の銅前駆体:【化1】【化2】式中、 a)Lは中性リガンドであって、xは1、2または3であり、 b)電荷を持つリガンドは、R1及びR3がそれぞれ独立してC1-C9のアルキル基またはアリール基であって、かつR2がH、FまたはC1-C9基であってもよいアセトアセテート誘導体であり、ただし、 c)R3はまた、アルキルシラン基、{-Si(R4)(R5)(R6)}であってもよく、この式におけるR4、R5及びR6は独立して、シリコンに結合するH、FまたはC1-C9のアルキル基もしくはアリール基、またはアルコキシ基(RがC1-C9のアルキル基またはアリール基である-OR)であってもよい。

IPC (4件)：

C07C 49/92 , C23C 16/18 , H01L 21/285 , H01L 21/285 301

FI (4件)：

C07C 49/92 , C23C 16/18 , H01L 21/285 C , H01L 21/285 301 Z

Fターム (11件)：

4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB76 , 4H006AB91 , 4K030AA11 , 4K030AA17 , 4K030BA01 , 4K030CA02 , 4K030LA15 , 4M104BB04 , 4M104DD45

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平4-318170

引用文献：

審査官引用 (2件)

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