特許
J-GLOBAL ID:200903072898791730
真空蒸着装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
森本 義弘
, 笹原 敏司
, 原田 洋平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-105215
公開番号(公開出願番号):特開2009-256705
出願日: 2008年04月15日
公開日(公表日): 2009年11月05日
要約:
【課題】蒸着材料のシャッター部材への付着に起因する膜厚や膜質が変化するのを防止し得る真空蒸着装置を提供する。【解決手段】蒸着により薄膜をガラス基板Kに形成し得る蒸着室1と、蒸着材料を蒸発させて蒸着材蒸気を得る複数の蒸発用セル4と、蒸着室内に配置されて蒸発用セルからの蒸着材蒸気を材料移送管6を介して導く分散用容器7と、この分散用容器に設けられて蒸着材蒸気を所定の放出位置に導く放出用ノズル11先端の放出口を開閉し得る穴部22を有するシャッター部材21とを具備し、シャッター部材を、放出用ノズルの放出口の上方位置で且つこの放出口を閉鎖し得る閉鎖位置と開放し得る開放位置との間で移動自在に設けるとともに、シャッター部材の穴部が放出口に対応する開放位置にあっては、当該シャッター部材が放出用ノズルの放出口よりも下方位置に移動し得るように構成したものである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
蒸着により薄膜を被蒸着部材に形成し得る蒸着室と、蒸着材料を蒸発させて蒸着材蒸気を得る複数の蒸発用セルと、上記蒸着室内に配置されて上記蒸発用セルからの蒸着材蒸気を所定の放出位置に導く放出用ノズル先端の放出口を開閉し得る穴部を有するシャッター部材とを具備した真空蒸着装置であって、
上記シャッター部材を、上記放出用ノズルの放出口の上方位置で且つ当該放出口を閉鎖し得る閉鎖位置と開放し得る開放位置との間で移動自在に設けるとともに、上記シャッター部材の穴部が放出口に対応する開放位置にあっては、当該シャッター部材が放出用ノズルの放出口よりも下方位置に移動し得るように構成したことを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (4件):
C23C 14/24
, C23C 14/12
, H01L 51/50
, H05B 33/10
FI (6件):
C23C14/24 G
, C23C14/24 C
, C23C14/24 A
, C23C14/12
, H05B33/14 A
, H05B33/10
Fターム (16件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG32
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029DA12
, 4K029DA13
, 4K029DB06
, 4K029DB12
, 4K029DB14
, 4K029EA01
引用特許:
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