特許
J-GLOBAL ID:200903072936263727

露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-142757
公開番号(公開出願番号):特開平8-017697
出願日: 1994年06月24日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】【目的】 各種エラーが発生したときにできるだけオペレータコールを行うことなく回復動作を行って、露光工程のスループットを向上させる。【構成】 投影露光装置機構部1Aに対して、ウエハローダ系制御ユニット2A、レチクルローダ系制御ユニット3A等が接続されている。ホストコンピュータ21において、通常の露光シーケンスを管理するシステム制御手段7A(親タスク)により、子タスクとしての並列制御手段9A、連続制御手段10A,...の動作が制御され、これら制御手段9A,10A,...が制御ユニット2A,3A,...の動作を制御する。システム制御手段7Aに対して独立に親タスクとしてのエラー回復手段22が設けられ、エラー回復手段22がエラー回復処理を行う。
請求項(抜粋):
マスクパターンを感光基板上に露光する露光本体部と、該露光本体部の動作を制御する複数の制御ユニットと、前記露光本体部でマスクパターンを感光基板上に露光する際の前記複数の制御ユニットの動作シーケンスを制御する主制御手段と、を有する露光装置において、前記複数の制御ユニットでエラーが発生した際に、前記主制御手段とは独立に前記発生したエラーの回復処理を行うエラー回復手段を設けたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G05B 9/02
FI (2件):
H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 514 E
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平2-170520
  • 半導体露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-281897   出願人:キヤノン株式会社
  • 特開平2-170520

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