特許

J-GLOBAL ID：200903073029269184

光記録媒体用成形材料

発明者： 金川 達也 ,  小川 典慶
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-174974
公開番号（公開出願番号）：特開平9-025339
出願日： 1995年07月11日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性および低複屈折性に優れた光記録媒体用成形材料を提供することを目的とする。【構成】 置換されたシクロヘキサン構造を有する下記一般式(A)おろび下記一般式(B)で表される構造単位を有し、一般式(A)であ表される構造単位が全構成単位中5〜40mol%であり、かつ極限粘度〔η〕が0.30〜0.50dl/gであるポリカーボネート共重合体からなる光記録媒体用成形材料。【化1】【化2】

請求項（抜粋）：

置換されたシクロヘキサン構造を有する下記一般式(A)および下記一般式(B)で表される構造単位を有し、一般式(A)の構造単位が全構成単位中5〜40mol %であり、かつ極限粘度が0.30〜0.50dl/gであるポリカーボネートからなる光記録媒体用成形材料。【化1】(式中、R1 〜R7 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、または炭素数7〜17のアラルキル基であり、これらの基の炭素は炭素数1〜5のアルキル基もしくはアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはポリジメチルシロキシ基で置換されていてもよい。)【化2】(式中、R8 〜R11はそれぞれ、水素、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、または炭素数7〜17のアラルキル基であり、これらの基の炭素は炭素数1〜5のアルキル基もしくはアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはポリジメチルシロキシ基で置換されていてもよい。Xは、下記の基を示す。【化3】ここにR12、R13はそれぞれ、水素、炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基又は炭素数6〜12アリール基を表すか、R12及びR13が結合して、炭素環または複素環を形成する基を表し、これらの基の炭素は炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい。aは0〜20の整数、b およびc は1〜100の整数を表す。)

IPC (2件)：

C08G 64/04 NPT ,  G11B 7/24 516

FI (2件)：

C08G 64/04 NPT ,  G11B 7/24 516

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-089536
  
• 光ディスク基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-135053   出願人：帝人化成株式会社