特許
J-GLOBAL ID:200903073101184938
薄膜の厚さ及び厚さ分布の評価方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中濱 泰光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-335128
公開番号(公開出願番号):特開2005-098923
出願日: 2003年09月26日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 簡便で迅速に、材料表面に存在する薄膜の膜厚及びその分布を評価する方法、特に材料表面に存在する薄膜の微小部の膜厚および、試料面内での膜厚の分布を評価する方法を提供する。【解決手段】 基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を加速電圧に対応して測定し、2次電子量が変化する加速電圧から薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を加速電圧に対応して測定し、2次電子量が変化する加速電圧から薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
IPC (3件):
G01B15/02
, G01N23/225
, H01L21/66
FI (3件):
G01B15/02 B
, G01N23/225
, H01L21/66 P
Fターム (35件):
2F067AA28
, 2F067BB18
, 2F067CC17
, 2F067DD08
, 2F067DD09
, 2F067EE10
, 2F067GG04
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067QQ03
, 2F067RR28
, 2F067RR35
, 2F067RR41
, 2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001GA06
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001KA11
, 2G001LA02
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 4M106AA01
, 4M106AA11
, 4M106AA13
, 4M106AA20
, 4M106BA02
, 4M106CA48
, 4M106DH03
, 4M106DH24
, 4M106DH33
, 4M106DH50
, 4M106DJ18
引用特許:
審査官引用 (3件)
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膜厚測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-282197
出願人:富山県, 木村好次
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特開昭63-009807
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特開昭54-100767
引用文献:
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