特許
J-GLOBAL ID:200903073159586033

ハイドロキシアパタイト皮膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-134042
公開番号(公開出願番号):特開平11-323570
出願日: 1998年05月15日
公開日(公表日): 1999年11月26日
要約:
【要約】【課題】 生体内で使用される金属基材上に、この金属基材の物性を低下させることなく、しかも皮膜の固着力に優れたハイドロキシアパタイト被覆を形成する簡易な方法を得る。【解決手段】 80°C〜300°Cの範囲内に加熱された前記金属基材を尿素、カルシウムイオン及びリン酸イオンを含む第一の水溶液に浸漬し、次いで少なくともカルシウムイオン及びリン酸イオンを含む第二の水溶液に浸漬して、前記金属基材の表面にハイドロキシアパタイト皮膜を生成させる。
請求項(抜粋):
生体内で使用される金属基材上にハイドロキシアパタイト皮膜を形成するに際して、80°C〜300°Cの範囲内に加熱された前記の金属基材を少なくとも尿素、カルシウムイオン及びリン酸イオンを含む第一の水溶液に浸漬し、次いで少なくともカルシウムイオン及びリン酸イオンを含む第二の水溶液に浸漬して、前記金属基材の表面にハイドロキシアパタイト皮膜を生成させることを特徴とするハイドロキシアパタイト皮膜の形成方法。
IPC (3件):
C23C 22/22 ,  A61L 27/00 ,  C23C 22/54
FI (3件):
C23C 22/22 ,  A61L 27/00 M ,  C23C 22/54

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