特許
J-GLOBAL ID：200903073367079390

エチレンの吸着剤、吸着除去方法及び排ガス浄化法

発明者：
小川 宏

小川 宏 について

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伊藤 雪夫

伊藤 雪夫 について

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中野 雅雄

中野 雅雄 について

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板橋 慶治

板橋 慶治 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154338
公開番号（公開出願番号）：特開平11-216359
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】エチレンの吸着能が高く、かつ排ガスの浄化に用いた場合でも、排ガス浄化触媒が作動する温度まで炭化水素を吸着保持する吸着性能を有し、かつその吸着性能において充分な耐熱性を有するエチレン吸着剤、及び本発明のエチレン吸着剤と窒素酸化物除去触媒とを用いた排ガス浄化法を提供する。【解決手段】Agが含有されたSiO2/Al2O3モル比が15以上のフェリエライト型構造を有するゼオライトから構成されたエチレン吸着剤を用いて、ガス中のエチレンを吸着除去する。また、この吸着剤と窒素酸化物除去触媒からなる排ガス浄化触媒を排ガスに接触させて、排ガスを浄化する。
請求項（抜粋）：
Agが含有されたSiO2/Al2O3モル比が15以上のフェリエライト型構造を有するゼオライトから構成されることを特徴とするエチレン吸着剤。
IPC (7件)：
B01J 20/18 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/67 ZAB ,  C01B 39/44 ,  A23B 7/152
FI (7件)：
B01J 20/18 E ,  B01D 53/02 Z ,  B01J 29/67 ZAB A ,  C01B 39/44 ,  A23B 7/152 ,  B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/36 104 A
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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