特許
J-GLOBAL ID：200903073398385244

表示装置の作製方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-202543
公開番号（公開出願番号）：特開2004-355009
出願日： 2004年07月09日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】 1対の大型のガラス基板を利用して、複数のパネルを同時に形成する。【解決手段】 薄膜トランジスタを有する画素領域と、集積回路とを第1の基板上に複数形成する工程と、シール材を用いて前記第1の基板と第2の基板とを所定の間隔で貼り合わせると共に、前記シール材により複数のパネル領域に区分する工程と、前記第1の基板及び前記第2の基板を前記シール材と共に分断する工程と、を有することを特徴とする。また、前記集積回路を前記シール材の中に封止することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
薄膜トランジスタを有する画素領域と、集積回路とを第1の基板上に複数形成する工程と、 シール材を用いて前記第1の基板と第2の基板とを所定の間隔で貼り合わせると共に、前記シール材により複数のパネル領域に区分する工程と、 前記第1の基板及び前記第2の基板を前記シール材と共に分断する工程と、を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
IPC (4件)：
G02F1/1339 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1345 ,  G09F9/00
FI (5件)：
G02F1/1339 505 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1345 ,  G09F9/00 338 ,  G09F9/00 348Z
Fターム (35件)：
2H088FA06 ,  2H088FA28 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA06 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20 ,  2H089HA15 ,  2H089KA10 ,  2H089LA41 ,  2H089LA48 ,  2H089NA37 ,  2H089PA15 ,  2H089QA02 ,  2H089QA07 ,  2H089QA08 ,  2H089QA12 ,  2H089TA07 ,  2H089TA09 ,  2H092GA31 ,  2H092GA58 ,  2H092GA60 ,  2H092JA24 ,  2H092MA37 ,  2H092NA13 ,  2H092NA29 ,  2H092PA04 ,  2H092PA06 ,  5G435AA13 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435EE37 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09 ,  5G435KK10
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 特開平4-242724
  • 特開昭64-048024
  • 特開昭56-009716
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