特許

J-GLOBAL ID：200903073400341713

描画装置及び描画方法

発明者： 角 克人
出願人/特許権者： 富士フイルムホールディングス株式会社
代理人 (2件)： 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-176660
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350022
出願日： 2005年06月16日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】描画ヘッドと描画面との位置関係や、描画ヘッドの描画特性等に起因する描画むらの発生を回避するとともに、画像を高精度に描画する描画装置及び描画方法を提供する。【解決手段】DMDを構成するマイクロミラーの一部を使用領域84aとする一方、残り部分を不使用領域84bとし、走査方向に狭小に設定して感光材料12に画素92を形成するとともに、各画素を複数のマイクロミラーを用いて形成する多重露光を行うことにより、感光材料12のうねりや光学特性による誤差を補正し、且つ、マイクロミラーの欠陥によるむらの出現を回避して、画像を高精度に描画する。【選択図】図14

請求項（抜粋）：

2次元状に配列された複数の描画素子を有する描画ヘッドを描画面の所定の走査方向に相対的に移動させ、前記各描画素子を描画データに従って制御することで描画を行う描画装置であって、 前記描画ヘッドの前記走査方向に対して所定幅に設定した一部素子領域の前記描画素子を前記描画データに従って制御する描画素子制御手段を備えるとともに、前記一部素子領域の複数の前記描画素子により前記描画面に多重描画すべく、前記描画素子の配列方向が前記走査方向に対して所定傾斜角度に設定されることを特徴とする描画装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G02B 26/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/20 501 ,  G02B26/08 E ,  H01L21/30 529

Fターム (11件)：

2H041AA13 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ05 ,  2H097AA03 ,  2H097CA03 ,  2H097CA06 ,  2H097GB04 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CB18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 露光ヘッド及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-154930   出願人：富士写真フイルム株式会社